高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）

高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）技术参数：  

Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials（Si,SiNx,SiC,quartz,glass）.Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.  

提供各种材料的纳米压印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板zui大尺寸：4英寸，特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸，zui小的特征尺寸可以达到50nm。  

DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.  

提供zui低30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板：任何导电或者非导电晶片。  

MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.  

各种纳米结构（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微纳米加工。  

高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特点：  

softmoldforthermalnanoimprint热压印的软模板  

quartzmoldforUVnanoimprint紫外压印的石英模板  

siliconmoldforthermalnanoimprint热压印的硅模板